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英特尔22纳米READY揭秘工艺背后的故事

发布时间:2020-06-30 19:53:08 阅读: 来源:坩埚厂家

在去年九月底的旧金山秋季IDF 2009论坛上,英特尔第一次向世人展示了22nm工艺晶圆,并宣布将在2011年下半年发布相关产品。

当然了,新型半导体工艺的实现并不是英特尔一家就能做到的,背后默默贡献半导体设备的功臣却往往不为人所知。Arete Research LLC公司的分析师Jagadish Iyer在一份报告中指出,英特尔即将最终决定22nm光刻工艺设备的供应商,最终入围的是荷兰ASML Holding NV和日本尼康两家。

其实在更早的45nm世代,ASML和尼康也曾双双成为英特尔的光刻设备供应商,但在32nm节点上英特尔首次应用了沉浸式光刻技术,只有尼康一家提供相关设备,如今ASML又要回来了。

此番ASML提供的光刻机为“NXT:1950i”,每台平均售价4000万欧元(5440万美元),负责40%的前道(FEOL)光刻层;尼康的光刻机则是“S620D”,报价3000万美元,负责60%的后道(BEOL)光刻层。英特尔的22nm工艺将有45个光刻层,其中55%需要进行沉浸式光刻。

在22nm工艺上,英特尔会继续使用193nm沉浸式光刻,而最近披露的一份路线图显示它会一直延续到11nm工艺节点,这也就意味着极紫外(EUV)光刻(不少狂热者可以以此推测人类半导体工业的制程极限了)又被推后了。

Jagadish Iyer估计到今年底的时候英特尔能每月生产大约5000块22nm晶圆,2011-2012年间四座晶圆厂全力开工,每座每月可生产大约4.5万块22nm晶圆,一个月合计18万块左右。

ASML光刻机

Nikon光刻机

来源:IT168 作者:

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